Electrónica
Más rápidos, más pequeños, más eficientes: el progreso en la microelectrónica está estrechamente ligado a la tecnología láser.
Una tendencia continua hacia la miniaturización y las enormes cantidades de piezas son dos de las particularidades más importantes de la industria electrónica. Gracias a una precisión hasta ahora inalcanzada y a la buena posibilidad de automatización, la tecnología láser ofrece soluciones industriales para estos desafíos. Los láseres de TRUMPF desempeñan una función elemental en la producción de chips informáticos de última generación. Asímismo, el láser permite multitud de otros pasos del proceso, como el corte y el taladrado de obleas de silicio, tarjetas de circuito impreso o módulos electrónicos completos. Los generadores de TRUMPF Hüttinger proporcionan además de forma fiable y precisa la energía de proceso necesaria para los procedimientos de recubrimiento y decapado en la producción de obleas de silicio.
Industria de los semiconductores
Los láseres de TRUMPF fabrican productos reproducibles y de alta calidad predestinados para el sector de la electrónica, incluso en grandes cantidades. Más de 1000 láseres de pulsos ultracortos de TRUMPF trabajan las 24 h, los 365 días del año solamente en los entornos de producción del líder mundial del sector. En función del campo de aplicación, TRUMPF proporciona una solución de máquinas o paquetes individuales de técnica de láser. En ambos casos, los clientes se benefician de la red de servicio establecida a nivel internacional del grupo TRUMPF.
Chips de alto rendimiento del futuro
La aparición de la microelectrónica y, con ella, los fundamentos de nuestros ordenadores y teléfonos actuales, no se hubiera podido concebir sin la tecnología láser. Los chips de lógica y de almacenamiento presentan estructuras en una escala nanométrica y solo pueden crearse mediante complejos procesos de iluminación con radiación láser. El enfoque convencional con radiación láser UV de láseres excímeros se ve cada vez más limitado. En el futuro, las estructuras pequeñas tan solo podrán generarse con longitudes de onda aún más cortas en el ámbito de los rayos ultravioleta extremos (UVE). Junto con el mayor fabricante de sistemas de litografía ASML y el especialista en sistemas ópticos Zeiss, TRUMPF ha trabajado en este proceso de la litografía EUV colaborando intensivamente durante años, y ha desarrollado un sistema de láser de CO2 único en el mundo. Y por esto, en el futuro, habrá una pieza de tecnología TRUMPF en muchos chips de alto rendimiento.
Fabricación de chips
Los generadores de plasma de TRUMPF Hüttinger desempeñan un papel fundamental incluso en la propia fabricación de chips. La calidad de los suministros eléctricos determina la calidad y la precisión del plasma generado. En el siguiente paso, este plasma se utiliza para dotar (implantación de iones), cortar (PECVD, ALD) o eliminar (grabado con plasma) diferentes materiales para fabricar chips semiconductores. Durante este proceso se forman gases tóxicos para el medio ambiente, que limpia con eficacia un sistema especial en los generadores de TRUMPF Hüttinger, de modo que la huella de CO2 de la producción de semiconductores es la menor posible.
Mecanizado de precisión en frío de chips, paquetes y tarjetas de circuito impreso
Tras la exposición y el montaje de los circuitos en las obleas de silicio, el siguiente reto de la cadena de procesos electrónica es la separación en chips individuales. Para conseguir las ranuras de corte más pequeñas posibles con una alta calidad de los cantos, así como para no dañar los delicados chips por la influencia térmica, se usan en la separación láseres de pulsos ultracortos de TRUMPF. Estos permiten el mecanizado de material sin una influencia del calor no deseada y la máxima precisión dentro del mecanizado por láser. Este láser también es apropiado para recortar módulos delicados (System-in-Package), el mecanizado de tarjetas de circuito impreso multimateriales y el taladrado de las llamadas microvías en silicio y vidrio. Además, el sector utiliza los láseres de TRUMPF para la remoción de capas dirigida, el corte de láminas y el marcado.
Cultivo de cristales
La producción sintética de cristales es el fundamento para la fabricación de semiconductores y, así, la base de toda la tecnología de comunicación y medios. Aquí crecen capas monocristalinas sobre sustratos monocristalinos del mismo material manteniendo el orden cristalográfico. El procedimiento se aplica, entre otras cosas, para la producción de LED. Los generadores de inducción de TRUMPF Hüttinger permiten una distribución de la temperatura homogénea y estable gracias a una regulación precisa y rápida de las magnitudes de salida.