Reflejada en los medios: la litografía UVE

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
Link: zum Artikel

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

En este artículo de Golem.de, el autor Marc Sauter informa que Samsung Foundry ha completado el desarrollo del proceso de 5 nm con radiación ultravioleta (UVE) y ahora está recibiendo pedidos de los clientes. Con el nuevo proceso, la densidad del transistor aumenta un 25 % y, a su vez, los chips tienen un 20 % menos de consumo de energía y un 10 % más de potencia de procesamiento.

Fuente: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Fecha de publicación: 04/2019
Enlace: Ir al artículo

En este artículo, Heise.de informa que Samsung comenzó la producción en su primera fábrica de 7 nm en otoño de 2018, donde expone obleas con el sistema de litografía UVE de ASML. Fuente: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Fecha de publicación: 10/2018
Enlace: Ir al artículo

El Informe Anual 2017/2018 de TRUMPF destaca cómo el dominio de la luz (y por tanto también de la litografía láser y UVE) proporciona los fundamentos para las futuras tecnologías como la inteligencia artificial, la conducción autónoma y las fábricas conectadas en red.

Fuente: Informe anual de TRUMPF AF 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Fecha de publicación: 10/2018
Enlace: Ir al artículo

El artículo de golem.de anuncia que ASML ha mejorado sus sistemas NXW:3400B de manera tan significativa que la producción en serie rentable y eficaz con radiación ultravioleta extrema está a la vuelta de la esquina. Fuente: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Fecha de publicación: 07/2018
Enlace: Ir al artículo

En este artículo, LaserFocusWorld describe los más de veinte años de desarrollo de la tecnología UVE y describe los numerosos obstáculos y desafíos que tuvieron que superarse antes del gran avance de 2015.

Fuente: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Fecha de publicación: 11/2017
Enlace: Ir al artículo

Este informe de la revista especializada "Produktion" trata sobre la adquisición mayoritaria de Access por parte de TRUMPF. Como fabricante de láseres de CO₂ de baja potencia, Access Laser es uno de los socios más importantes de TRUMPF en el negocio de la UVE. Fuente: www.optics.org
Autor: n.N.
Fecha de publicación: 10/2017
Enlace: Ir al artículo

La revista alemana "Stuttgarter Zeitung" informa sobre cómo TRUMPF se ha introducido en la industria de los semiconductores como proveedor con su amplificador láser y ha fundado una nueva filial para este negocio. Fuente: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Fecha de publicación: 05/2017
Enlace: Ir al artículo

El artículo en el semanario para la revista electrónica "Markt&Technik" resume el volumen de ventas actual y previsto de ASML y las cifras de ventas, que demuestran que la litografía UVE ha llegado finalmente a la industria. Fuente: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Fecha de publicación: 07/2017
Enlace: Ir al artículo