Im Spiegel der Medien: EUV-Lithografie

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
Link: zum Artikel

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

In diesem Artikel auf Golem.de berichtet Autor Marc Sauter, dass Samsung Foundry die Entwicklung des 5-nm-Verfahrens mit extrem ultra-violetter Strahlung (EUV) abgeschlossen hat und ab sofort Aufträge von Kunden entgegen nimmt. Mit dem neuen Verfahren kann die Transistordichte um 25 % gesteigert werden und gleichzeitig weisen die Chips eine 20 % geringere Leistungsaufnahme bzw. eine 10 % höhere Rechenleistung auf.

Quelle: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

Heise.de berichtet in diesem Artikel, dass Samsung im Herbst 2018 die Produktion in seiner ersten 7-nm-Fabrik aufgenommen hat und dort Wafer mit dem EUV-Lithografiesystem von ASML belichtet.

Quelle: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Erscheinungsdatum: 10/2018
Link: zum Artikel

Der TRUMPF Geschäftsbericht 2017/2018 beleuchtet, wie die Beherrschung des Lichts - und damit auch der Laser und die EUV-Lithografie - die Grundlage für Zukunftstechnologien wie Künstliche Intelligenz, autonomes Fahren und vernetzte Fabriken liefert.

Quelle: TRUMPF Geschäftsbericht GJ 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Erscheinungsdatum: 10/2018
Link: zum Artikel

Der Artikel auf golem.de kündigt an, dass ASML seine NXW:3400B-Systeme so maßgeblich verbessert hat, dass die kosten- und zeiteffiziente Serienfertigung mit extrem ultravioletter Strahlung in greifbare Nähe rückt.

Quelle: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Erscheinungsdatum: 07/2018
Link: zum Artikel

LaserFocusWorld zeichnet in diesem Artikel die mehr als zwanzigjähre Entwicklung der EUV-Technologie nach und beschreibt die zahlreichen Hürden und Herausforderungen, die bis zum Durchbruch im Jahr 2015 gemeistert werden mussten.

Quelle: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Erscheinungsdatum: 11/2017
Link: zum Artikel

Dieser Bericht in der Fachzeitschrift "Produktion" befasst sich mit der Mehrheitsübernahme von Access durch TRUMPF. Als Hersteller von Low-Power-CO₂-Lasern ist Access Laser einer der wichtigsten Partner im EUV-Geschäft von TRUMPF.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 10/2017
Link: zum Artikel

Die Stuttgarter Zeitung berichtet, wie TRUMPF mit seinem Laser Amplifier als Zulieferer in die Halbleiterindustrie einsteigt und für das Geschäft eine neue Tochter gegründet hat.

Quelle: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Erscheinungsdatum: 05/2017
Link: zum Artikel

Der Artikel in der Wochenzeitung für Elektronik "Markt&Technik" fasst aktuelle und geplante Umsatz- und Absatzzahlen von ASML zusammen, die belegen, dass die EUV-Lithografie nun endgültig in der Industrie angekommen ist.

Quelle: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Erscheinungsdatum: 07/2017
Link: zum Artikel