Das High Power Seed Module (HPSM) besteht aus zwei Seedlasern, die wenige Watt starke Ausganspulse erzeugen, sowie aus einer Vielzahl an aktiven und passiven optischen Komponenten, die den Laserstrahl formen und für eine optimale Pulslänge sorgen. Mit einem ersten Verstärker wird das Licht auf eine Größenordnung von 100 W vorverstärkt. Die Seedlaser sind durch Schutzmechanismen optimal vor Rückreflexen geschützt, so dass die Stabilität des Gesamtsystems entscheidend erhöht und die erforderliche konstante EUV-Leistung erreicht werden kann.

Die High Power Amplification Chain (HPAC) setzt sich aus vier Resonatoren zur Leistungserhöhung zusammen, die durch strahlführende Elemente miteinander verbunden sind. Jeder Resonator ist auf die jeweilige Verstärkungsstufe optimiert (z. B. Gebläse, RF-Anregung, Gasmischung, Strahlführung). Drei unterschiedliche Kühlkreisläufe gewährleisten dabei die notwendige Stabilität im System. Kurze Pulse sorgen für eine extrem hohe Peak-Ausgangsleistung im MW-Bereich. Umfassende Online-Metrologie liefert die Grundlage zur permanenten Vermessung des Strahls.

Das Beam Transport System (BTS) - bestehend aus Aufbauplatte, Periskop und Spiegel - transportiert den Laserstrahl bis zu 30 Meter in Richtung Tröpfchenkammer. Grundsätzlich ist sowohl die mechanische Stabilität des Systems unter der hohen Leistungsbelastung als auch die Dichtigkeit der Strahlführung für eine geringe Absorption und Verschmutzung entscheidend. Die Spiegel sind speziell beschichtet, damit so wenig Laserlicht wie möglich absorbiert wird.

Die FFA besteht aus zwei Anlagenteilen: einer Optics Platform und einer Focusing Unit. Zur Erzeugung eines idealen Plasmablitzes muss der Laserpuls den Zinntropfen nahezu vollständig treffen. Da der Zinntropfen jedoch kleiner als der Durchmesser des Laserstrahls ist, wird in der Optics Platform ein Pre- und Main-Puls separiert und zur optimalen EUV-Erzeugung geformt. Der Pre-Pulse trifft den Zinntropfen zunächst mit einer geringeren Pulsleistung, sodass der Tropfen zu einem scheibenförmigen Gebilde aufquillt und sich die Fläche vergrößert. Der hinterhereilende Main-Pulse wird von dem entstandenen Flüssigkeitsfilm absorbiert und das eigentliche Plasma entsteht, welches EUV-Strahlung erzeugt. Auf diese Weise werden die 40 Kilowatt Laserleistung effizient ausgenutzt und eine prozessesichere Erzeugung der Plasmablitze zur Belichtung gewährleistet. Die Focusing Unit sorgt für eine optimale Fokussierung des Laserlichts auf den Zinntropfen.