V zájmu médií: EUV litografie

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
Link: zum Artikel

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

Autor Marc Sauter v tomto článku na Golem.de uvádí, že společnost Samsung Foundry dokončila vývoj 5nm metody s extrémním ultrafialovým zářením (EUV) a od této chvíle přijímá od zákazníků zakázky. Díky této nové metodě lze zvýšit hustotu tranzistorů o 25 % a čipy zároveň mají o 20 % nižší spotřebu energie, resp. o 10 % vyšší výpočetní výkon.

Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Datum vydání: 04/2019
Odkaz: na článek

Web Heise.de v tomto článku informuje o tom, že Samsung zahájil na podzim 2018 výrobu ve své první 7nm továrně, kde osvětluje wafery pomocí EUV litografického systému společnosti ASML. Zdroj: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Datum vydání: 10/2018
Odkaz: na článek

Obchodní zpráva společnosti TRUMPF 2017/2018 vysvětluje, jak vytváří ovládání světla – a tím i laser a EUV litografie – základ pro budoucí technologie, jako jsou umělá inteligence, nezávislá jízda a továrny propojené do sítě.

Zdroj: Obchodní zpráva TRUMPF GJ 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Datum vydání: 10/2018
Odkaz: na článek

Článek na webu golem.de oznamuje, že společnost ASML vylepšila své systémy NXW:3400B natolik, že se reálně přiblížila cenově a časově efektivní sériová výroba s extrémním ultrafialovým zářením. Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Datum vydání: 07/2018
Odkaz: na článek

LaserFocusWorld v tomto článku zachycuje více než dvacetiletý vývoj EUV technologie a popisuje četné překážky a výzvy, se kterými bylo nutné se vypořádat až do průlomu v roce 2015.

Zdroj: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Datum vydání: 11/2017
Odkaz: na článek

Tato zpráva v odborném časopise "Produktion" se zabývá převzetím většinového podílu ve společnosti Access společností TRUMPF. Jako výrobce nízkovýkonových CO₂ laserů je společnost Access Laser jedním z nejdůležitějších partnerů společnosti TRUMPF v oblasti EUV. Zdroj: www.optics.org
Autor: n.N.
Datum vydání: 10/2017
Odkaz: na článek

Noviny "Stuttgarter Zeitung" informují, jak vstoupila společnost TRUMPF se svým produktem Laser Amplifier jako dodavatel do polovodičového průmyslu a pro svůj obchod založila novou dceřinou společnost. Zdroj: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Datum vydání: 05/2017
Odkaz: na článek

Článek v týdeníku pro elektroniku "Markt&Technik" shrnuje aktuální a plánované ukazatele obratu a odbytu společnosti ASML, které dokládají, že EUV litografie nyní konečně vstoupila do průmyslu. Zdroj: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Datum vydání: 07/2017
Odkaz: na článek