При реактивното разпрашаване, също като при пасивното разпрашаване (метод PVD), се разпрашават целите. Но атомите, които образуват слоя върху субстрата, не идват само от целта. Най-малко един от компонентите на образувалия се по-късно слой произтича от газовата фаза. Реактивният газ, съотв. неговите йонизирани съставки, реагират химично с материала на целта или неговите избити атоми. Образувалите се съединения се отлагат върху субстрата. Така например при реактивното разпрашаване на цинк в кислородна плазма се образува цинков оксид (ZnO) или при разпрашаването на алуминий в азотна плазма се образува алуминиев нитрид (AlN). Ако реакцията протича върху целта, се разпрашава продуктът на реакцията.
Бяла книга (Whitepaper)
Съставихме за Вас Бяла книга (Whitepaper) с интересни и тематично свързани материали
Контакт