Във фокуса на медиите: EUV литографията

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
Link: zum Artikel

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

В тази статия на Golem.de авторът Марк Заутер информира, че Samsung Foundry е завършила развитието на 5-nm метод с изключително силно ултравиолетово облъчване (EUV) и вече приема поръчки от клиенти. С новия метод транзисторната плътност може да се увеличи с 25% и същевременно чиповете показват 20% по-ниска консумирана мощност или 10% по-висока изчислителна мощност.

Източник: www.golem.de
Автор: Марк Заутер
Дата на публикацията: 04/2019 г.
Линк: към статията

Heise.de съобщава в тази статия, че през есента на 2018 г. Samsung стартира производството в своята първа 7 nm фабрика и там осветява пакети с EUV система за литография на ASML. Източник: www.heise.de
Автор: Нико Ернст
Дата на публикацията: 10/2018 г.
Връзка: към статията

Докладът на дейността на TRUMPF за 2017/2018 посочва как овладяването на светлината, а с това и на лазера и EUV литографията, поставя основите на бъдещите технологии, като изкуствения интелект, автономното шофиране и свързаните в мрежа фабрики.

Източник: Доклад за дейността на TRUMPF – финансова година 2017/2018
Автор: TRUMPF GmbH + Co. KG
Дата на публикацията: 10/2018 г.
Връзка: към статията

Статията на golem.de съобщава, че ASML е подобрил своите системи NXW:3400B толкова много, че ефективното по отношение на разходите и времето серийно производство с екстремно ултравиолетово лъчение ще е достъпна в обозримо бъдеще. Източник: www.golem.de
Автор: Марк Заутер
Дата на публикацията: 07/2018 г.
Връзка: към статията

LaserFocusWorld проследява повече от двадесетгодишното развитие на технологията EUV и описва многото препятствия и предизвикателства, които трябваше да бъдат преодолени преди пробива през 2015 г.

Източник: LaserFocusWorld
Автор: Андреас Тос
Дата на публикацията: 11/2017 г.
Връзка: към статията

Тази статия в специализираното списание "Produktion" описва придобиването на мажоритарен дял от Access от TRUMPF. Като производител на CO₂ лазери с ниска мощност Access Laser е един от най-важните партньори в бизнеса с EUV на TRUMPF. Източник: www.optics.org
Автор: не е посочен
Дата на публикацията: 10/2017 г.
Връзка: към статията

Stuttgarter Zeitung разказва как TRUMPF със своя Laser Amplifier навлиза като доставчик в сферата на производството на полупроводници и е основал дъщерно дружество за този бизнес. Източник: Stuttgarter Zeitung
Автор: Михаел Хелер
Дата на публикацията: 05/2017 г.
Връзка: към статията

Статията в ежеседмичника за електроника "Markt&Technik" обобщава текущите и планираните данни за оборота и продажбите на ASML, които показват, че EUV литографията несъмнено се е наложила в промишлеността. Източник: Markt&Technik
Автор: Хайнц Арнолд
Дата на публикацията: 07/2017 г.
Връзка: към статията