High Power Seed Module (HPSM) се състои от два Seedlaser, които генерират изходни импулси от по няколко вата, както и от редица активни и пасивни оптични компоненти, които формират лазерния лъч и осигуряват оптимална дължина на импулса. С помощта на усилвател светлината се усилва предварително до порядъка на 100 W. Seedlaser са защитени оптимално срещу обратно отразяване чрез защитни механизми така, че стабилността на цялата система се увеличава значително и необходимата константна EUV мощност може да бъде достигната.

High Power Amplification Chain (HPAC) се състои от четири резонатора за увеличаване на мощността, които са свързани помежду си чрез насочващи лъча елементи. Всеки резонатор е оптимизиран за съответното ниво на усилване (напр. вентилатор, RF възбуждане, смесване на газове, насочване на лъч). Три различни охлаждащи кръга осигуряват необходимата стабилност на системата. Кратките импулси осигуряват екстремно висока пикова изходна мощност в диапазона на MW. Обширна онлайн метрология предоставя основата за постоянно измерване на лъча.

Beam Transport System (BTS), състояща се от основна плоча, перископ и огледало, транспортира лазерния лъч на до 30 метра по посока на камерата за капки. По принцип за ниската абсорбция и замърсяването от решаващо значение са както механичната стабилност на системата при високо натоварване, така и плътността на хода на лъча. Огледалата имат специално покритие, за да се абсорбира възможно най-малко лазерна светлина.

FFA се състои от две части на системата: Optics Platform и Focusing Unit. За генерирането на идеален плазмен импулс е необходимо лазерният импулс да се срещне почти изцяло с капката калай. Тъй като капката калай обаче е по-малка от диаметъра на лазерния лъч, в Optics Platform се извършва разделяне на Pre- и Main-Puls и се постига оптимално генериране на EUV. Pre-Pulse първо среща капката калай с по-ниска импулсна мощност така, че капката се сплесква до подобна на диск структура и площта ѝ се увеличава. Подаваният след това Main-Pulse се абсорбира от получения течен филм и се образува същинската плазма, която генерира EUV лъчение. По този начин 40 киловата лазерна мощност се оползотворяват ефективно и се гарантира надеждно за процеса генериране на плазмени импулси за експозицията. Focusing Unit осигурява оптимално фокусиране на лазерната светлина върху капките калай.